產品介紹

絕緣子漏電起痕試驗機

設(she)備型(xing)號：NLD-AII

滿足標準：

GB/T  20142-2006 標稱(cheng)電(dian)壓高(gao)于(yu)1000V的(de)交流(liu)架空線路用線路柱式復合(he)絕(jue)緣子(zi)---定義 、試驗方法及接受準則(ze)

GBT 22079-2008 標稱電(dian)壓高于1000V使用的戶內和戶外(wai)聚合物絕緣子 一(yi)般定義、試驗方法和接受準則

試驗原理：

在一(yi)個封(feng)閉(bi)的(de)鹽霧(wu)室內，水平(ping)和垂(chui)直各放置一(yi)個絕(jue)緣子(zi)，對(dui)絕(jue)緣子(zi)施加工頻高壓，長期運行1000小時，判斷(duan)工頻高壓及鹽霧(wu)室對(dui)絕(jue)緣子(zi)的(de)蝕損(sun)程度，及絕(jue)緣子(zi)的(de)耐漏(lou)電概況，從而判斷(duan)絕(jue)緣子(zi)是否(fou)合格。

絕緣子漏電起痕試驗機設備組成：

高壓發生器(qi)：主要(yao)由調(diao)壓器(qi)和(he)變壓器(qi)組成，主要(yao)作用(yong)是升壓和(he)降壓

霧(wu)(wu)化(hua)(hua)(hua)試驗箱(xiang)：主(zhu)要(yao)由霧(wu)(wu)化(hua)(hua)(hua)室和(he)超(chao)聲(sheng)波霧(wu)(wu)化(hua)(hua)(hua)器組(zu)成，在(zai)霧(wu)(wu)化(hua)(hua)(hua)室內，由超(chao)聲(sheng)波霧(wu)(wu)化(hua)(hua)(hua)器產生(sheng)規定流量的霧(wu)(wu)化(hua)(hua)(hua)顆粒后，附(fu)著在(zai)絕緣子表(biao)面，形(xing)成露珠(zhu)后，對絕緣子進行腐蝕(shi)。

控(kong)制系統(tong)：控(kong)制整個(ge)試驗系統(tong)的(de)開始、暫(zan)停和結束。

軟件功能：

1、★曲(qu)(qu)線顯示(shi)(shi)：實(shi)時顯示(shi)(shi)試驗電壓和電流(liu)曲(qu)(qu)線

2、★負(fu)載(zai)(zai)電流：實(shi)時顯(xian)示負(fu)載(zai)(zai)電流，過載(zai)(zai)保護

3、上(shang)下限(xian)位：上(shang)下限(xian)位狀態指示(shi)燈

4、★試(shi)(shi)驗(yan)(yan)暫停：時(shi)間期間可以中斷試(shi)(shi)驗(yan)(yan)過程后，繼續開始(shi)試(shi)(shi)驗(yan)(yan)，累(lei)積記錄試(shi)(shi)驗(yan)(yan)總時(shi)長

5、參(can)數(shu)校(xiao)準：可以對電(dian)壓和電(dian)流參(can)數(shu)進行(xing)校(xiao)準

6、歷(li)史數據：可以查詢歷(li)史數據

7、電子(zi)報(bao)告：可以保(bao)存電子(zi)報(bao)告

8、數(shu)據導出：可(ke)以通過U盤接口導出數(shu)據

技術參數：

1、輸(shu)入(ru)電(dian)壓：AC-220V

★2、輸(shu)出(chu)電(dian)壓：AC0～50KV，DC -50～0 KV可以調

3、電(dian)器容量(liang)：50KVA

4、電(dian)壓試驗精度(du)：<2%

5、高(gao)壓側(ce)輸出電(dian)流(liu)： ≥1A

6、高壓側輸出電流：>250MA時，最(zui)大電壓降<5%

7、電流(liu)測(ce)量精度(du)：<1%

★8、門限位開(kai)關：打(da)開(kai)門后，電(dian)(dian)壓斷電(dian)(dian)并(bing)自(zi)動歸(gui)零(ling)

9、過(guo)流保護：可設定(ding)

10、試品離霧(wu)室頂的間距：>400mm，

11、試品離(li)墻(qiang)的間距(ju)：>400mm

14、試品數(shu)量：水平1只，垂(chui)直1只

15、試驗時(shi)間：1000小時(shi)

★16、噴霧方式：超(chao)聲波霧化器

17、試樣處的噴霧速(su)度：3M/S

18、噴霧量為：（0.4±0.1）L/m3.H

★19、霧室(shi)容積：4m3(長(chang)寬高=2000mm*1200mm*1700mm)

20、噴霧(wu)液體： NaC1和(he)去離子(zi)水(shui)配制(zhi)好的鹽水(shui)

★23、霧化顆粒：5μm-10μm

24、控制系統：嵌入式工業計算機

★25、主機(ji)尺寸(cun)：長寬(kuan)高=3400*1300*1800（MM）

26、設備重量：300kG